抛光造句
“抛光”的解释
101、假如发生表面意外擦伤，只要使用抛光剂，即可迅速方便地修整去除。
102、用途：主要用于玻璃脱色，澄清剂，高级抛光粉材料，还用于陶瓷、电子、化工、催化等。
103、对于约20美元,您可以建立一个非常好的抛光铝抛太阳灶.
104、研究表明，抛光液膜厚度随着抛光速度的增加而增加，增加的趋势随抛光转速的提高而减缓。
105、犀利水砂纸，具有较好的柔软性、耐水、耐酸、碱及各种溶剂，主要用于汽车、船体、机床腻子的打磨，精密仪器的抛光。
106、得益于氧化铝辨状结构,油石的整个侧面都可用于抛光!
107、分量反映的才是颜色的种类，因此选用H分量进行瓷质抛光砖的颜色检测。
108、原始表面和完全电抛光表面呈现较强的随机性特征。
109、用途：用作玻璃蚀刻剂，金属表面的化学抛光剂、酿酒的消毒剂，防腐剂，纤维的媒染剂，也用于提取稀有元素等。
110、我用珐琅漆和聚丙烯漆，纤维素涂料和指甲用的抛光剂，但是我的首选的是硝基漆，尤其是田宫合成树脂漆。
111、本文研制了室温固化的抛光砖表面防污剂。
112、包括：24片脚趾甲，指甲艺术，水，使用工具和抛光条。
113、一种安装在直边机、斜边机、双边磨边机和多工位圆片机上对玻璃边进行抛光的磨具，也被称为水松轮。
114、这些黄色的复合体抛光器具有超柔软的特殊硅胶带和超精细金刚砂。
115、对铸件进行标准切除铸道后，喷砂、打磨、抛光即可。
116、将铸钛修复体的化学抛光方法应用于临床。
117、并通过实验详细研究了磁流体辅助抛光后工件的抛光区形状，以及抛光区内表面粗糙度情况。
118、所有焊接位经过打磨抛光，无污物残留，无卫生死角。
119、主要用于不锈钢,金属制品,光学玻璃,竹木制品的抛光和喷砂,又是制造树脂砂轮,切割片,砂布的新颖磨料.
120、耐磨擦、耐腐蚀、有弹性、抛削力强，主要用于制作各种规格抛光轮，也可用于各种物品的包装。
121、针对常规不锈钢化学抛光剂的缺点，研制出了一种高性能环保不锈钢化学抛光剂配方。
122、她在家居展逛了一圈后，一眼就看中了一种抛光砖。
123、购买首饰提供终身免费清洗、指环抛光服务。
124、本机适用于光学水晶、蓝宝石的双面研磨或抛光。
125、你也需要养成擦拭车漆之后用酒精在擦拭车漆表面，祛除抛光之后的抛光剂，确保漆面被完好的修复。
126、所述18K金弹金手镯的制备工艺步骤为：开料、热模和抛光。
127、经过超声波洁治及刮治后应该对牙齿表面进行抛光可提高其光洁度，牙根面以抛光膏的抛光效果最好。
128、地铁呼啸前进，他的歌就像正在飞速旋转的砂轮上抛光的钻石，闪着微弱的光。于坚
129、本文通过化学键合的方法，将两种杂环化合物直接键合在抛光的单晶锗表面。
130、泰国生营有限公司为木器厂，生产各类木制包装盒如：珠宝盒、手表盒、采用PE、PU亮光度镜面抛光漆。
131、用极薄的金刚砂抛光锯片，将外涂特殊树脂的金刚石切成若干圆片，然后将圆片分离、洗净并分类。
132、主营化妆品包装容器，铝制品的生产，抛光，阳极处理，电脑转轴研发生产，及五金研发生产。
133、入耳式耳机采用抛光不锈钢外壳和优质纤维制成的耳机导线。
134、针对超精密光滑光学元件加工过程中容易出现的粗糙度较大和表面疵病较多的现象，对传统抛光机理和抛光过程中抛光粉的主要参量对抛光质量的影响进行了研究。
135、介绍了陶瓷抛光砖的加工工艺，以及目前陶瓷砖抛光线上的磨边机和刮平定厚机的基本情况。
136、再以柔软、吸水的布或纸巾在金属表面拭擦。不要用水冲洗，必须用布把金属表面拭擦，造成抛光效果。
137、也可用于抛光条、抛光浆、油漆表面、亚克力、不锈钢镜面、非铁金属、玉石，大理石、花冈岩、水晶、光学玻璃。
138、在碳化钨硬质合金修整器塑形后，使用此抛光器可以马上获得明亮的磨光效果。
139、从微观角度进一步分析了磁流变研抛的机理及其特点，并通过和传统抛光方法进行比较，分析了磁流变抛光的优势所在。
140、同时代理欧洲先进的玻璃磨轮，抛光轮。
141、效果会跟买的抛光剂一样快，但用洋葱擦的就足够好，可以成为划算的替代品。
142、抛光过程中因钝化膜被磨损，腐蚀加快，腐蚀电流密度大幅增加。
143、目的：观察不同的磨抛程序和自上釉的陶瓷表面的粗糙度，为临床陶瓷修复体抛光提供可参考的依据。
144、黄铜色的最为接近金牌，但有一个更乏味，也许除了立即抛光后的光泽。
145、在台面上涂上抛光蜡，用抛光机在台面来回转动，直到台面接驳口表面光泽度与其它处基本一致。
146、所有的尺寸均需在产品抛光完工后.
147、在抛光工艺中，抛光液的种类、抛光垫的选择、抛光压力、温度、抛光盘转速、加工时间等诸多条件都是决定抛光质量的重要因素。
148、说明：富铈氧化稀土为黄褐色粉末，用于生产抛光粉。
149、用摩挲皂，清洁颗粒，收敛剂，竭尽搓洗或抛光粉扑可以清楚颜面粉刺。
150、该抛光轮可避免涂抹抛光介质这一危险工序。
